高纯金属溅射靶材

溅射技术概念:
 溅射技术是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。
 溅射靶材的种类相当多,靶材的分类有不同的方法:
 根据形状分为长靶,方靶,圆靶,管靶
 根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
 根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等
 根据应用领域分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、其他靶材
 
 溅射靶材应用:
 溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。瓦肯金属材料荣鼎国际APP钨靶材和钼靶材广泛应用于TFT-LCD平面显示及薄膜太阳能电池镀膜。
 溅射靶材对纯度有较高的要求,一般钨钼溅射靶材要求纯度达到99.95%以上,并且具有良好的密度和耐腐蚀性能。瓦肯金属生产的W、Mo、Ti、MoNb、Nb靶等具有高密度、高纯度、高加工精度、晶粒细小、组织均匀等优点。
 
 产品材料:
 钼靶材、钼铌合金靶材、钼钽合金靶材、钨靶材以及钨合金靶材

钼旋转靶材 钼铌旋转靶材 钼平面靶材 钼圆靶

 

盛通彩票网 盛通彩票登陆 亚洲彩票平台 乐盈彩票平台 乐盈彩票官网 亚洲彩票app 盛通彩票官网 亚洲彩票网 乐盈彩票APP 亚洲彩票